光電化學(xué)反應(yīng)儀

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CHI760E電化學(xué)工作站

CHI700E系列是通用雙恒電位儀，可同時(shí)控制同一電解池中的兩個(gè)工作電的電位，其典型應(yīng)用是旋轉(zhuǎn)環(huán)盤電，也能被用于其它需要雙工作電的情況下。雙恒電位儀只能用于同一溶液中的兩個(gè)工作電的電位控制以及電流測量，而不是兩個(gè)獨(dú)立的恒電位儀。儀器內(nèi)含快速數(shù)字信號(hào)發(fā)生器，用于高頻交流阻抗測量的直接數(shù)字信號(hào)合成器，雙通道高速數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)，電位電流信號(hào)濾波器，多級信號(hào)增益，iR降補(bǔ)償電路，雙恒電位儀，以及恒電流儀(CHI760E)。兩個(gè)通道的電位范圍均為+/-10V。電流范圍(兩通道電流之和)為±250mA。CHI700E系列是在CHI600E的基礎(chǔ)上增加了一塊電路板，內(nèi)含第二通道電位控制電路，電流-電壓轉(zhuǎn)換器，靈敏度選擇，三個(gè)增益級，一個(gè)具有八個(gè)數(shù)量級可變頻率范圍的二階低通濾波器。CHI700E能夠控制兩個(gè)工作電的電位，允許循環(huán)伏安法，線性掃描伏安法，階梯波伏安法，計(jì)時(shí)安培法，差分脈沖伏安法，常規(guī)脈沖伏安法，方波伏安法，時(shí)間-電流曲線等實(shí)驗(yàn)技術(shù)進(jìn)行雙工作電的測量。當(dāng)用作雙恒電位儀測量時(shí)，第二工作電電位可以保持在獨(dú)立的恒定值，也可與工作電同步掃描或階躍等。在循環(huán)伏安法中，還可與工作電保持一恒定的電位差而掃描。兩個(gè)工作電的電流測量下限均低于50pA，可直接用于超微電上的穩(wěn)態(tài)電流測量。CHI700E系列也是十分快速的儀器。信號(hào)發(fā)生器的更新速率為10MHz，數(shù)據(jù)采集采用兩個(gè)同步16位高分辨低噪聲的模數(shù)轉(zhuǎn)換器，雙通道同時(shí)采樣的高速率為1MHz。循環(huán)伏安法的掃描速度為1000V/s時(shí)，電位增量僅0.1mV，當(dāng)掃描速度為5000V/s時(shí)，電位增量為1mV。又如交流阻抗的測量頻率可達(dá)1MHz，交流伏安法的頻率可達(dá)10KHz。儀器還有外部信號(hào)輸入通道，可在記錄電化學(xué)信號(hào)的同時(shí)記錄外部輸入的電壓信號(hào)，例如光譜信號(hào)等。這對光譜電化學(xué)等實(shí)驗(yàn)為方便。

CHI700E除了允許第二工作電的電位獨(dú)立控制在恒定電位外，還允許第二工作電的電位與工作電同步掃描或階躍。雙通道同步掃描時(shí)，高掃速可達(dá)10,000 V/s。雙通道同步階躍時(shí)，小采樣間隔可達(dá)1微秒。由于CHI700E系列是CHI600E系列的拓展，CHI700E系列還可以配備恒電流儀(CHI760E)。CHI700E系列還允許四電體系，用于液/液界面的電化學(xué)測量。

硬件參數(shù)指標(biāo)

恒電位儀/雙恒電位儀

· 零阻電流計(jì)

· 2，3，4電結(jié)構(gòu)

· 浮動(dòng)地線或?qū)嵉?/span>

· 兩個(gè)通道大電位范圍： ±10 V

· 大電流：±250 mA 連續(xù)（兩個(gè)通道電流之和）, ±350 mA 峰值

· 槽壓：±13 V

· 恒電位儀上升時(shí)間：小于 1 ms, 通常 0.8 ms

· 恒電位儀帶寬（-3分貝）：1 MHz

· 所加電位范圍：±10 mV, ±50 mV, ±100 mV, ±650 mV, ±3.276 V, ±6.553 V, ±10 V

· 所加電位分辨：電位范圍的0.0015%

· 所加電位準(zhǔn)確度： ±1 mV,±滿量程的0.01%

· 所加電位噪聲：< 10 mV 均方根植

· 測量電流范圍：±10 pA 至 ±0.25 A， 12量程

· 測量電流分辨：電流量程的0.0015%，低 0.3 fA

· 電流測量準(zhǔn)確度：電流靈敏度大于等于1e-6 A/V時(shí)為0.2%，其他量程1%

· 輸入偏置電流：< 50 pA

恒電流儀

· 恒電流范圍： 3 nA – 250 mA

· 所加電流準(zhǔn)確度：如果電流大于 3e-7A時(shí)為0.2%，其他范圍為1%，±20 pA

· 所加電流分辨率：電流范圍的0.03%

· 測量電流范圍： ±0.025 V, ±0.1 V, ±0.25 V, ±1 V, ±2.5 V, ±10 V

· 測量電位分辨率：測量范圍的0.0015%

Electrometer: 電位計(jì)

· 參比電輸入阻抗：1e12 歐姆

· 參比電輸入帶寬： 10 MHz

· 參比電輸入偏置電流：<= 10 pA @ 25°C

波形發(fā)生和數(shù)據(jù)獲得系統(tǒng)

· 快速信號(hào)發(fā)生更新速率：10 MHz， 16位分辨

· 快速數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)：16位分辨，雙通道同步采樣，采樣速率每秒1,000,000 點(diǎn)

· 外部信號(hào)記錄通道高采樣速率1M Hz

· 可拓展掃描電化學(xué)顯微鏡功能

實(shí)驗(yàn)參數(shù)

· CV和LSV掃描速度： 0.000001V/s 至 10,000 V/s，雙通道同步掃描及采樣至10,000 V/s

· 掃描時(shí)的電位增量：0.1 mV （當(dāng)掃速為 1,000 V/s時(shí)）

· CA和CC的脈沖寬度： 0.0001 至 1000 sec

· CA的小采樣間隔： 1 ms，雙通道同步

· CC的小采樣間隔： 1 ms

· CC模擬積分器

· DPV和NPV的脈沖寬度：0.001 至 10 sec

· SWV頻率： 1 至 100 kHz

· i-t 的小采樣間隔： 1 ms，雙通道同步

· ACV頻率范圍：0.1 至 10 kHz

· SHACV頻率范圍：0.1 至 5 kHz

· FTACV頻率范圍：0.1 至 50Hz，可同時(shí)獲取基波，二次諧波，三次諧波，四次諧波，五次諧波，六次諧波的ACV數(shù)據(jù)

· 交流阻抗： 0.00001 至 1 MHz

· 交流阻抗波形幅度： 0.00001 V 至 0.7 V 均方根值

其他特點(diǎn)

· 自動(dòng)或手動(dòng)iR降補(bǔ)償

· 電流測量偏置：滿量程，16位分辨，0.003% 準(zhǔn)確度

· 電位測量偏置：±10V，16位分辨，0.003% 準(zhǔn)確度

· 外部電位輸入

· 電位和電流的模擬輸出

· 可控電位濾波器的截止頻率： 1.5 MHz, 150 KHz, 15 KHz, 1.5 KHz, 150 Hz, 15 Hz, 1.5 Hz, 0.15 Hz

· 可控信號(hào)濾波器的截止頻率： 1.5 MHz, 150 KHz, 15 KHz, 1.5 KHz, 150 Hz, 15 Hz, 1.5 Hz, 0.15 Hz

· 旋轉(zhuǎn)電控制電壓輸出：0-10V 對用于 0-10000 rpm的轉(zhuǎn)速，16位分辨，0.003% 準(zhǔn)確度，需要某些旋轉(zhuǎn)電裝置才能工作

· 通過宏命令可以控制數(shù)字輸入輸出線

· 內(nèi)閃存儲(chǔ)器可迅速更新程序

· 串行口或USB口數(shù)據(jù)通訊

· 電解池控制：通氮，攪拌，敲擊（需要特殊電解池系統(tǒng)）

· CV數(shù)字模擬器和擬合器。用戶定義反應(yīng)機(jī)理（CHI730E以上）或預(yù)定義反應(yīng)機(jī)理（其他型號(hào)）

· 交流阻抗模擬器和擬合器（具有交流阻抗測量功能的型號(hào)）

· 大數(shù)據(jù)長度：256,000-16,384,000 點(diǎn)可選擇

· 儀器尺寸： 37 cm (寬) ´ 23 cm (深) ´ 12 cm (高)

CHI700E系列儀器不同型號(hào)的比較

功能	700E	710E	720E	730E	750E	760E
循環(huán)伏安法（CV）	l	l	l	l	l	l
線性掃描伏安法（LSV）^#	l	l	l	l	l	l
階梯波伏安法（SCV）^#				l	l	l
Tafel圖（TAFEL）				l	l	l
計(jì)時(shí)電流法（CA）	l		l	l	l	l
計(jì)時(shí)電量法（CC）	l		l	l	l	l
差分脈沖伏安法（DPV）^#		l	l	l	l	l
常規(guī)脈沖伏安法（NPV）^#		l	l	l	l	l
差分常規(guī)脈沖伏安法（DNPV）^#						l
方波伏安法（SWV）^#			l	l	l	l
交流（含相敏）伏安法（ACV）^#				l	l	l
二次諧波交流（相敏）伏安法（SHACV）^#				l	l	l
電流-時(shí)間曲線（i-t）				l	l	l
差分脈沖電流檢測（DPA）						l
雙差分脈沖電流檢測（DDPA）						l
三脈沖電流檢測（TPA）						l
積分脈沖電流檢測（IPAD）						l
控制電位電解庫侖法（BE）	l		l	l	l	l
流體力學(xué)調(diào)制伏安法（HMV）					l	l
掃描-階躍混合方法（SSF）					l	l
多電位階躍方法（STEP）					l	l
交流阻抗測量（IMP）					l	l
交流阻抗-時(shí)間測量（IMPT）					l	l
交流阻抗-電位測量（IMPE）					l	l
計(jì)時(shí)電位法（CP）						l
電流掃描計(jì)時(shí)電位法（CPCR）						l
多電流階躍法（ISTEP）						l
電位溶出分析（PSA）						l
電化學(xué)噪聲測量（ECN）						l
開路電壓-時(shí)間曲線（OCPT）	l	l	l	l	l	l

恒電流儀						l
RDE控制（0-10V輸出）	l	l	l	l	l	l
任意反應(yīng)機(jī)理CV模擬器				l	l	l
預(yù)設(shè)反應(yīng)機(jī)理CV模擬器	l	l	l
交流阻抗數(shù)字模擬器和擬合程序					l	l

價(jià)格（元）*	30,100	30,100	39,200	48,200	55,300	62,200

注： #：包括相應(yīng)的譜法和溶出伏安法。用于譜法時(shí)需要特殊的靜汞電或敲擊器。

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